CVD鉆石光學(xué)元件材料

產(chǎn)品介紹

CVD鉆石光學(xué)元件材料

鉆石鍍膜抗反射ZnSe

鉆石鍍膜抗反射ZnSe元件材料

II-VI's Diamond OverCoat (DOC)是一種混合型抗反射（AR）鍍膜，比傳統(tǒng)的Ge類金剛石碳（DLC）鍍膜具有更高的光學(xué)性能，比標(biāo)準(zhǔn)的AR設(shè)計(jì)具有更好的耐久性。這種鍍膜對(duì)于暴露在惡劣環(huán)境中的光學(xué)器件，以及需要經(jīng)常清潔的應(yīng)用，如切割、鉆孔、劃線和打標(biāo)，可能會(huì)有飛濺物和碎屑附著在光學(xué)表面上，特別有用。這種低吸收性鍍膜也是對(duì)熱穩(wěn)定性敏感的應(yīng)用的理想選擇。

DOC/AR鍍膜通常應(yīng)用于光學(xué)器件的一面，但也可以應(yīng)用于兩面。反射性鍍膜的DOC設(shè)計(jì)也可用于鏡面。

可清洗

特別設(shè)計(jì)的防金屬濺射功能

防刮傷

輕松去除附著在光學(xué)表面的灰塵、污垢等雜物。

高傳輸

與傳統(tǒng)的DLC鍍膜相比，性能有所提高

吸收率低，熱穩(wěn)定性好

多用途

可在各種基材上進(jìn)行透射和反射應(yīng)用。ZnSe、銅、鉆石、SiC、硅、其他

可提供非釷版本

單一波長(zhǎng)和寬帶波長(zhǎng)可供選擇

鍍膜可適用于各種幾何形狀

特性

材料——硒化鋅

鍍膜 DOC/AR

環(huán)保性能

該鍍膜旨在滿足以下 MIL 規(guī)范的耐用性要求：

3.4.1.1 附著力

3.4.1.2 濕度

3.4.1.3 中度磨損

3.4.2.1 溫度

3.4.2.2 溶解性和清潔性

光譜性能

9.4 x µm (DOC/AR) 的光譜性能

每個(gè)表面反射 < 0.2 %

透射率 > 98.5 %

吸收率 < 0.9 %

這種鍍膜可以設(shè)計(jì)成在其他 CO2 波長(zhǎng)下具有類似的性能。

CVD鉆石光學(xué)元件材料

多晶CVD金剛石由于其出色的性能，長(zhǎng)期以來一直被認(rèn)為是各種應(yīng)用的終/極材料。它優(yōu)良的硬度是精密工具和加工工藝的優(yōu)勢(shì)。金剛石的高導(dǎo)熱性使它在熱管理應(yīng)用中非常有用。其廣泛的光學(xué)傳輸范圍使金剛石窗口能夠進(jìn)入半導(dǎo)體制造的尖/端光刻系統(tǒng)。此外，它在微波波段的透明度為微波工程的應(yīng)用開發(fā)開辟了一個(gè)完整的世界。在其較純凈的形式下，多晶CVD鉆石沒有電子陷阱，使其成為高能應(yīng)用中使用的超敏感核探測(cè)器的理想材料。

通過等離子體化學(xué)氣相沉積法生長(zhǎng)，II-VI公司的鉆石產(chǎn)品經(jīng)過優(yōu)化，充分利用了使鉆石成為超級(jí)材料的品質(zhì)。II-VI Incorporated將晶體生長(zhǎng)與較*的光學(xué)級(jí)加工相結(jié)合，通過整形和拋光、質(zhì)量保證和涂層，其廣泛的CVD金剛石產(chǎn)品組合包括高透明度的微波窗和靈敏度最高的金剛石核探測(cè)器。II-VI Incorporated對(duì)金剛石材料研究和開發(fā)的強(qiáng)烈承諾使我們能夠與希望利用多晶CVD金剛石的驚人品質(zhì)的所有市場(chǎng)客戶密切合作。

透明窗和光學(xué)器件

在II-VI ，光學(xué)金剛石正在大批量生產(chǎn)。我們一直在生產(chǎn)具有優(yōu)質(zhì)光學(xué)質(zhì)量的材料（低1微米散射，低10.6微米體吸收，低632.8納米的雙折射），其截面尺寸和厚度范圍廣泛。

通過利用制造和涂層方面的核心技術(shù)，II-VI ，成為極紫外光鉆石窗口的優(yōu)良品牌，這對(duì)下一代半導(dǎo)體制造的*光刻工具至關(guān)重要。

熱管理解決方案

通過調(diào)整我們的生長(zhǎng)過程，II-VI ，已經(jīng)開發(fā)出為各種高性能熱管理應(yīng)用生成多晶CVD金剛石的能力。熱導(dǎo)率的規(guī)格范圍高達(dá)2200 W/m-K以上。利用我們優(yōu)良的制造設(shè)施，我們能夠根據(jù)客戶的規(guī)格制造出直徑大至145mm、厚度達(dá)2mm的超平和超光滑的部件，以確保與設(shè)備的優(yōu)良的熱接觸。

微波透明光學(xué)器件

II-VI 制造高質(zhì)量的鉆石光學(xué)產(chǎn)品，在微波區(qū)域是透明的。結(jié)合我們內(nèi)部對(duì)直徑大至145mm的窗口和透鏡進(jìn)行拋光和鍍膜的能力，II-VI 已經(jīng)準(zhǔn)備好滿足核聚變研究等領(lǐng)域?qū)ξ⒉ㄍ该鞑牧系男枨蟆?/p>

加工解決方案

II-VI 已經(jīng)開發(fā)出一種金剛石薄膜，在加工較堅(jiān)硬的材料時(shí)，擁有堪稱*的硬度和磨損率。通過將我們較*的拋光和制造技術(shù)與我們內(nèi)部的激光制造設(shè)施相結(jié)合，我們能夠以有競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格生產(chǎn)出優(yōu)良的產(chǎn)品。

核檢測(cè)器解決方案

使用精細(xì)調(diào)整的超高純生長(zhǎng)工藝，II-VI ，生長(zhǎng)出的多晶金剛石薄膜表現(xiàn)出優(yōu)良的電荷收集距離。對(duì)于500微米厚的成品部件，可以獲得一致的結(jié)果。

主要的CVD鉆石應(yīng)用

CVD金剛石的應(yīng)用包括多光譜激光光學(xué)、介電窗、散熱片等。

金剛石是各種應(yīng)用的終/極材料，因?yàn)樗哂谐錾男阅埽O/強(qiáng)的硬度和強(qiáng)度、高導(dǎo)熱性、低熱膨脹、出色的介電性能、抗化學(xué)侵蝕以及在寬光譜范圍內(nèi)的光學(xué)傳輸。

我們?cè)谳^*的生長(zhǎng)和制造設(shè)施中生產(chǎn)高質(zhì)量的多晶CVD金剛石基片。材料采用等離子體輔助化學(xué)氣相沉積工藝生長(zhǎng)，用激光切割成所需的尺寸，并按照客戶的要求對(duì)表面進(jìn)行加工。我們還提供其他特殊的制造服務(wù)，如邊緣研磨、激光雕刻以及光學(xué)組件的設(shè)計(jì)和制造。II-VI ，專門為金剛石基片提供*的光學(xué)涂層，包括單波長(zhǎng)或多光譜應(yīng)用的AR、HR和TFP。

II-VI 所提供的一些產(chǎn)品包括。

用于工業(yè)激光應(yīng)用的高功率_CO2激光窗口（10微米范圍）。

用于工業(yè)或研究應(yīng)用的高功率多光譜激光窗口。

用于聚變和定向能應(yīng)用的高功率mm波窗口

用于極/端熱管理應(yīng)用的熱擴(kuò)散器

用于需要超硬材料的機(jī)械應(yīng)用的產(chǎn)品。

主要的CVD鉆石應(yīng)用

_CO2激光窗(10.6µm)

- 高功率工業(yè)激光器

高功率微波窗

- 陀螺儀、聚變反應(yīng)堆

- 雷達(dá)、定向能應(yīng)用

熱管理

- 散熱器

物理特性

制造能力*

熱性能（熱級(jí)材料）

光學(xué)特性（光學(xué)級(jí)材料）*

微波級(jí)材料

*這代表標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)。 可根據(jù)要求提供產(chǎn)品數(shù)據(jù)表和規(guī)格。