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    紅外光學元件類鏡片

    紅外光學元件類鏡片

    • 產(chǎn)品型號:
    • 更新時間:2024-04-16
    • 產(chǎn)品介紹:紅外光學元件類鏡片
      我們可以根據(jù)客戶要求,在紅外材料拋光基片表面 加工碼盤,相位光柵,投射光柵,反射光柵、分劃版,分辨 率版等產(chǎn)品
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    產(chǎn)品介紹

    品牌其他品牌應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

    紅外光學元件類鏡片

    紅外鏡片光刻


    紅外光學元件類鏡片

    硒化鋅光刻

    技術要求

    公差范圍

    刻畫小線寬

    1.5um

    刻畫大面積

    180mm

    刻畫圖案誤差

    ±0.5um(根據(jù)刻畫面積而定)

    刻畫深度

    0.05um -10um(根據(jù)圖案寬度而定)

    刻畫深度誤差

    ±0.001um

    材料

    硅、鍺、硒化鋅、硫化鋅等紅外材料

    我們可以根據(jù)客戶要求,在紅外材料拋光基片表面 加工碼盤,相位光柵,投射光柵,反射光柵、分劃版,分辨 率版等產(chǎn)品

    紅外測溫窗口


    紅外窗口是一個可以透過紫外線、可見光、紅外線的光學窗口,將紅外窗口安裝在電氣柜的殼 體上,利已在電力系統(tǒng)普遍使用的紅外線熱成像儀、

    測溫儀,結合《紅外導則》判別發(fā)熱故障,通 過紅外窗口就可方便地對電氣機柜內(nèi)部設備進行各種無損檢測,實現(xiàn)狀態(tài)檢修。

    方便電力監(jiān)測人員 發(fā)現(xiàn)高壓事故的隱患,及時解決和維護,防止高壓事故的發(fā)生。

    紅外窗口主要用于各種高壓開關柜、 金屬鎧裝柜、城市環(huán)網(wǎng)柜及GIS高壓設備的內(nèi)部測溫。消除引發(fā)熱成像儀檢查時高壓電弧事故的風 險。

    紅外窗口針對發(fā)電廠6KV和400V的風機、泵機、磨煤機、皮帶機等的電機接線盒,6KV開關柜、 10KV封閉母線進行紅外線測溫。

    紅外窗口還可以對變壓器接線盒、開關鎖、電纜分接盒等密閉設備 內(nèi)部進行紅外線檢測。

    型號

    材質(zhì)

    透過率

    短時工頻耐壓試驗

    窗口直徑

    安裝開孔尺寸

    使用壽命

    YSCW-60A

    紅外復合晶體

    ≥93%(0.15-14μm)

    15KV 1min

    60mm

    71mm

    大于10年

    YSCW-75/A

    紅外復合晶體

    ≥93%(0.15-14μm)

    15KV 1min

    75mm

    86mm

    大于10年

    YSCW-80A

    紅外復合晶體

    ≥93%(0.15-14μm)

    15KV 1min

    80mm

    86mm

    大于10年

    YSCW-88A

    紅外復合晶體

    ≥93%(0.15-14μm)

    15KV 1min

    88mm

    97mm

    大于10年

    YSCW-100A

    紅外復合晶體

    ≥93%(0.15-14μm)

    15KV 1min

    100mm

    111mm

    大于10年

    YSCW-120A

    紅外復合晶體

    ≥93%(0.15-14μm)

    15KV 1min

    120mm

    131mm

    大于10年


    紅外測溫窗口


    技術指標

    技術要求

    口徑公差范圍

    0.01mm ---0.05mm

    填充因子

    70%---95%

    焦距范圍

    2mm ---50mm

    焦距公差范圍

    0.5mm ---1mm

    面型控制

    球面或非球面

    子口徑形狀

    圓形矩形正六邊形環(huán)形等多種

    單元口徑大小

    0.1mm ---2mm

    加工外型尺寸

    Φ5---Φ100mm

    倒邊

    0.1-0.5mm

    材料

    硅、鍺、硒化鋅、硫化鋅等紅外材料

    復眼透鏡元件是由的多組浮雕結構組成的列陣,具有聚 焦、成像等主要功能,完成傳統(tǒng)光學元件無法完成的功能,

    外形 尺寸小,重量輕等特點應用范圍:成像、光通訊、聚能、光耦合 等領域。




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