質(zhì)檢——精密光學測量儀器

產(chǎn)品型號：
更新時間：2023-12-21
產(chǎn)品介紹：質(zhì)檢——精密光學測量儀器
LAYERTEC的精密光學設(shè)備配備了用于平面和球形曲面的干涉儀。可以為平面度為λ/ 20（633nm）的平面基板和形狀度為λ/ 10（633nm）的球形基板提供干涉測量規(guī)程。
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產(chǎn)品介紹

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組件類別	光學元件	應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

質(zhì)檢——精密光學測量儀器

LAYERTEC致力于確保當前和未來產(chǎn)品的質(zhì)量。

我們*的測量設(shè)備可用于監(jiān)督基材和涂層的生產(chǎn)。

例如我們定期測量

Ø表面形態(tài)

Ø表面粗糙度/精加工質(zhì)量

Ø光譜透射率和反射率

Ø頻譜相位和GDD（如果適用）

Ø使用以O(shè)PO為光源的寬帶腔衰蕩設(shè)置在寬波長范圍內(nèi)進行高級反射率測量

Ø某些波長和脈沖長度的損傷閾值測量

質(zhì)檢——精密光學測量儀器

LAYERTEC的精密光學設(shè)備配備了用于平面和球形曲面的干涉儀。可以為平面度為λ/ 20（633nm）的平面基板和形狀度為λ/ 10（633nm）的球形基板提供干涉測量規(guī)程。

LAYERTEC還使用高性能的Fizeau干涉儀和Twyman-Green干涉儀在以下測量范圍內(nèi)對大型光學器件的形狀公差進行測量：

平面：

Ø最大∅= 300mm

Ø測量精度：平坦度λ/ 100（546nm）

球面：

Ø最大∅= 500mm

Ø測量精度：形狀公差為λ/ 50（546nm）

原子力顯微鏡（AFM）是有用的儀器，用于表征均方根粗糙度低于5Å的非常光滑的表面。LAYERTEC具有AFM，可控制特殊的拋光過程并根據(jù)要求提供檢查方案。

涂層測量工具

LAYERTEC的檢查程序包括在120nm至20µm的波長范圍內(nèi)對鍍膜光學元件進行分光光度測量。使用PERKIN ELMER分光光度計Lambda950®，Lambda750®和Lambda19®在190nm – 3200nm波長范圍內(nèi)進行標準分光光度測量。對于超出此波長范圍的測量，LAYERTEC配備了FTIR光譜儀（對于λ=1μm...20μm）和VUV光譜儀（對于λ= 120nm ... 240nm）。

通過腔衰蕩時間光譜法測量高反射率，R = 99.9 ... 99.9995％。實際上，LAYERTEC配備了各種CRDS測量系統(tǒng)，可以在355nm至1064nm的波長范圍內(nèi)使用。此外，還提供了一種新穎的寬帶CRDS設(shè)置，該設(shè)置可以測量220nm至2300nm之間的低損耗反射鏡的反射率。

LAYERTEC配備了LIDT測量設(shè)置，工作于266nm，355nm，532nm和1064nm且具有ns脈沖。

還可以與耶拿光子技術(shù)研究所，弗勞恩霍夫研究所耶拿Jena和漢諾威激光Zentrum合作，對光學薄膜和塊狀材料的吸收和散射損耗進行測量，并對激光損傷閾值進行測量。